電鍍設備的基本工藝要求

　　電鍍（dù）設備在含有欲鍍金屬的鹽類溶液中，以被鍍基體金（jīn）屬為陰極，通過電解作用，使鍍（dù）液中欲鍍金屬的陽離子在基體金（jīn）屬外表堆積進去，形成（chéng）鍍層的一種外表加工方法（fǎ）。鍍（dù）層性能不同於基體金屬，具有新的特征。根據鍍層的功能分為防護性鍍層，裝飾性鍍層及其它（tā）功能性鍍層。電（diàn）鍍設備廠家

 

　　折疊編輯本段電（diàn）鍍設備基本原理

　　工藝要求

　　1.鍍層與基（jī）體金屬、鍍層與鍍層（céng）之間，應有良好的結（jié）合力。

　　2.鍍層（céng）應結晶細致、平（píng）整、厚度均（jun1）勻。

　　3.鍍層應具有規定的厚度和盡可能少（shǎo）的（de）孔隙。

　　4.鍍（dù）層應具有規定的各項指（zhǐ）標，如光亮度、硬度、導電性等。

　　5.電鍍時間（jiān）及電鍍過程的溫度，決定鍍層（céng）厚度的大小。

　　6.環境溫度為-10℃~60℃。

　　7.輸入（rù）電壓為220V±22V或380V±38V

　　8.水處置設備最大工作噪聲應不大（dà）於80dBA

　　9.相對（duì）濕（shī）度（dù）(RH應不大於（yú）95%

　　10.原水COD含量為100mg/L~150000mg/L