電鍍設備銅中氯離子消（xiāo）耗過大（dà）的原因（yīn）

電鍍設備鍍銅時線路板板麵的低電（diàn）流區出現"無光澤"現象，氯方子濃度偏低;一般通過（guò）添加鹽酸後，板麵低電流密度區的（de）鍍層"無光（guāng）澤"現象才能消失，鍍液中的氯離子濃度才能達到正常（cháng）範圍，板麵鍍層光亮（liàng）。如果要通過添（tiān）加大（dà）量鹽酸來（lái）解決低電流密度區鍍層"無光澤（zé）"現象，就不一定是氯離子濃度太（tài）低而造成的，需分析其真正的（de）原因。如果采取添加大量鹽酸：一來，可能會產生其它後果（guǒ），二來增加生（shēng）產成本，不（bú）利於企業競爭。

通過添加大量的鹽酸來消除（chú）"低電流密度區鍍層不光亮"現象，說明如是氯（lǜ）離子過少，才需添加鹽酸來增加氯離子的濃度達到（dào）正常範圍，使低電流密度區鍍層（céng）光亮。如果要（yào）添加成倍的鹽（yán）酸才能使（shǐ）氯離子的濃度達（dá）到正常範圍?是什麽在消耗大量的（de）氯離子呢?氯離子濃度太高會使光亮劑消（xiāo）耗快。說明氯離子與光亮（liàng）劑會產生（shēng）反應，過量（liàng）的氯離子會消耗;反過來，過量的光亮劑（jì）也（yě）消耗氯離子。因為氯離子過少和光亮劑過量都是造成低電流（liú）密度區鍍層不光亮（liàng）"的主要（yào）原因，因此可見，造（zào）成"鍍銅中氯離子消耗過大的主要原因是光亮劑濃度太高。

目（mù）前隨著印製線路板向高密度、高精度方向發展，電鍍設備對硫酸鹽鍍銅工藝提出了更加嚴格的要求，電鍍設備必須同時控（kòng）製好鍍銅工藝過（guò）程中的各種（zhǒng）因素，才能（néng）獲得高品（pǐn）質的鍍層。